“피해 최소 수십조” 중국에 삼성전자 기술 유출한 전 연구원 근황
삼성전자의 D램 핵심 공정 기술을 중국 업체에 유출한 혐의를 받는 전직 연구원이 구속 상태로 재판에 넘겨졌다. 서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 2일, 삼성전자에서 퇴직 후 중국 반도체 기업 CXMT(창신메모리테크놀로지)로 이직한 전직 연구원 전 모 씨(55)를 산업기술보호법상 국가 핵심기술 국외 유출 등의 혐의로 구속기소 했다고 밝혔다.
전 씨는 삼성전자가 약 1조 6,000억 원을 들여 개발한 D램 공정 기술을 부정한 방법으로 취득·사용한 혐의를 받고 있다. 검찰에 따르면 전 씨는 삼성전자에서 부장으로 근무하다가, 앞서 구속기소 된 김 모 씨와 함께 CXMT로 이직하면서 삼성 기술을 이전하고 핵심 인력 영입 계획 등을 주도한 것으로 조사됐다.
검찰은 이들이 수사에 대비해 단체 채팅방에서 하트 이모티콘 4개(♡♡♡♡)를 암호로 사용하거나, 해당 중국 회사에 이직한 사실을 숨기기 위해 다른 업종의 허위 회사를 만들어 위장 취업한 정황도 포착했다. CXMT는 중국 지방정부가 약 2조 6,000억 원을 투자해 설립한 중국 최초의 D램 반도체 생산 기업이다. 전 씨는 해당 기업으로부터 계약 성과급 3억 원과 스톡옵션 3억 원을 포함해 6년간 약 29억 원을 받은 것으로 알려졌다.
함께 범행에 가담한 김 씨는 지난해 1월 구속기소 돼 1심에서 징역 7년과 벌금 2억 원을 선고받았다. 검찰은 이 사건과 관련한 공범 일부를 인터폴을 통해 계속 추적 중이다. 검찰은 “이번 기술 유출로 인해 삼성전자의 지난해 추정 매출 감소액만 수조 원에 달하며, 장기적으로는 최소 수십조 원의 손해가 발생할 것으로 예상된다”라며 “기업과 국가 경제를 위협하는 기술 유출 범죄에 대해 강력히 대응하겠다”라고 밝혔다.
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